UAM2000 超高溫超聲波噴霧熱解設備

 UAM2000 超高溫超聲波噴霧熱解設備可用于需要適度高溫干燥的應用，以及噴霧熱解、噴霧干燥、基材涂層，表面溫度高達 600°C。 超聲波高溫噴霧熱解設備可用于制備均勻的薄膜涂層，如氧化銦錫（ITO）、摻雜鋁的氧化鋅（AZO）、氧化鋅（ZnO）和摻雜氟的氧化物層。超聲波精密噴涂機，采用發明專利的超聲波噴頭技術，可應用于鈣鈦礦、染敏、有機等薄膜太陽能電池科研課題及生產的方向。